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      當前位置:首頁產(chǎn)品中心分散機乳化分散機GRS2000氣相二氧hua硅分散機

      氣相二氧hua硅分散機

      產(chǎn)品簡介

      氣相二氧hua硅分散機是精細化工專用設(shè)備,采用高效轉(zhuǎn)定子與強湍流發(fā)生結(jié)構(gòu)。通過超高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生強剪切、沖擊效應(yīng),破解氣相二氧hua硅易團聚難題,實現(xiàn)均勻分散與充分潤濕。設(shè)備適配多體系物料,分散穩(wěn)定、效率高,能提升產(chǎn)品觸變性與穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于涂料、膠黏劑、復(fù)合材料等生產(chǎn)場景。

      產(chǎn)品型號:GRS2000
      更新時間:2025-11-12
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問量:71
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      氣相二氧hua硅分散機

      是極其重要的高科技超微細無機新材料之一,由于其粒徑很小,因此比表面積大,表面吸附力強,表面能大,化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其you越的穩(wěn)定性、補強性、增稠性和觸變性,在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)du具特性,有著不可取代的作用。氣相二氧化硅俗稱"超微細白炭黑",廣泛用于各行業(yè)作為添加劑、催化劑載體,石油化工,脫色劑,消光劑,橡膠補強劑,塑料充填劑,油墨增稠劑,金屬軟性磨光劑,絕緣絕熱填充劑,高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領(lǐng)域。并為相關(guān)工業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展提供了新材料基礎(chǔ)和技術(shù)保證。由于它在磁性、催化性、光吸收、熱阻和熔點等方面與常規(guī)材料相比顯示出特異功能,因而得到人們的極大重視。


      樹脂基復(fù)合材料具有輕質(zhì)、高強、耐腐蝕等特點,但近年來材料界和國民經(jīng)濟支柱產(chǎn)業(yè)對樹脂基材料使用性能的要求越來越高,如何合成高性能的樹脂基復(fù)合材料,已成為當前材料界和企業(yè)界的重要課題。氣相二氧化硅的問世,為樹脂基復(fù)合材料的合成提供了新的機遇,為傳統(tǒng)樹脂基材料的改性提供了一條新的途徑,只要能將氣相二氧化硅顆粒充分、均勻地分散到樹脂材料中,wan全能達到quan面改善樹脂基材料性能的目的。

      氣相二氧hua硅分散機


      1、提高強度和延伸率。環(huán)氧樹脂是基本的樹脂材料,把氣相二氧化硅添加到環(huán)氧樹脂中,在結(jié)構(gòu)上wan全不同于粗晶二氧化硅(白炭黑等)添加的環(huán)氧樹脂基復(fù)合材料,粗晶SiO2一般作為補強劑加入,它主要分布在高分子材料的鏈間中,而氣相二氧化硅由于表面嚴重的配位不足、龐大的比表面積以及表面欠氧等特點,使它表現(xiàn)出ji強的活性,很容易和環(huán)氧環(huán)狀分子的氧起鍵合作用,提高了分子間的鍵力,同時尚有一部分氣相二氧化硅顆粒仍然分布在高分子鏈的空隙中,與粗晶SiO2顆粒相比較,表現(xiàn)很高的流漣性,從而使氣相二氧化硅添加的環(huán)氧樹脂材料強度、韌性、延展性均大幅度提高。


      2、提高耐磨性和改善材料表面的光潔度。氣相二氧化硅顆粒比SiO2要小100-1000倍,將其添加到環(huán)氧樹脂中,有利于拉成絲。由于氣相二氧化硅的高流動性和小尺寸效應(yīng),使材料表面更加致密細潔,摩擦系數(shù)變小,加之納米顆粒的高強度,使材料的耐磨性大大增強。

      3、抗老化性能。環(huán)氧樹脂基復(fù)合材料使用過程中一個致命的弱點是抗老化性能差,其原因主要是太陽輻射的280-400nm波段的紫外線中、長波作用,它對樹脂基復(fù)合材料的破壞作用是十分嚴重的,高分子鏈的降解致使樹脂基復(fù)合材料迅速老化。而氣相二氧化硅可以強烈地反射紫外線,加入到環(huán)氧樹脂中可大大減少紫外線對環(huán)氧樹脂的降解作用,從而達到延緩材料老化的目的。

      二氧化硅的傳統(tǒng)分散方法主要有:
          研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。
         球磨分散:通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。
      砂磨分散:砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細的珠或砂。砂磨機可連續(xù)進料,納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。

      氣相二氧hua硅分散機


      分散效果介紹:分散是至少兩種不相容液體構(gòu)成熱力學(xué)不穩(wěn)定體系,一種液體以球形單位分散在另一種液體中,所以分散越穩(wěn)定分散效果越好。

      從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

      1.分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

      2.分散頭的剪切速率,(越大效果越好)

      3.分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

      4.物料在分散墻體的停留時間、分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

      5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

      氣相二氧hua硅分散機設(shè)備選型表:

      標準流量

      輸出轉(zhuǎn)速

      標準線速度

      馬達功率

      L/H

      rpm

      m/s

      KW

      GRS2000/4

      300

      14000

      44

      4

      DN25

      DN15

      GRS2000/5

      1500

      10500

      44

      11

      DN40

      DN32

      GRS2000/10

      3000

      7500

      44

      22

      DN50

      DN50

      GRS2000/20

      20000

      4900

      44

      45

      DN80

      DN65

      GRS2000/30

      40000

      2850

      44

      75

      DN150

      DN125

      GRS2000/50

      60000

      2000

      44

      160

      DN200

      DN150





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