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產(chǎn)品中心分散機(jī)粉體納米分散機(jī)GMD2000實(shí)驗(yàn)室粉碎分散機(jī)
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實(shí)驗(yàn)室粉碎分散機(jī)是小型化物料處理設(shè)備，核心通過高速轉(zhuǎn)子與定子配合，產(chǎn)生剪切、撞擊力，實(shí)現(xiàn)物料粉碎、分散與混合，處理粒徑可達(dá)微米至納米級(jí)。它體積小、操作便捷，適配醫(yī)藥、化工等實(shí)驗(yàn)室研發(fā)場(chǎng)景，可精準(zhǔn)控制參數(shù)，滿足小批量樣品試驗(yàn)需求，兼具高效處理與靈活調(diào)整的特點(diǎn)。
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GMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備，集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體，在多個(gè)領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹脂等進(jìn)口研磨分散機(jī)；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果。
GMD2000/4進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，電機(jī)功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，處理在0-200L，設(shè)備體積較小，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作。專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。
GMD2000/4進(jìn)口實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散，效率高效果好。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
實(shí)驗(yàn)室粉碎分散機(jī)設(shè)備選型表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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