納米涂料高剪切分散機

產(chǎn)品簡介

納米涂料高剪切分散機是適配納米涂料生產(chǎn)的專用設(shè)備，靠 15000rpm 以上高速轉(zhuǎn)定子產(chǎn)生強剪切力，配合特殊分散腔，破除納米顏料團聚體，實現(xiàn)均勻分散。
它能保障涂料粒徑均一（可達納米級）、提升附著力與耐候性，適配建筑、電子等領(lǐng)域納米涂料生產(chǎn)，且易清潔、控溫精準(zhǔn)，滿足高純度涂層需求。

產(chǎn)品型號：GMD2000

更新時間：2025-11-04

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：88

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納米涂料高剪切分散機

一應(yīng)般來說，納米涂料必須滿足兩個條件：首先，涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1—100nm的粒徑范圍；其次，納米相的存在使涂料的性能要有明顯的提高或具有新的功能。傳統(tǒng)高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進行預(yù)混合?，F(xiàn)代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的，加上潤濕分散機的運用，許多涂料不必進行研磨，僅僅使用高速分散機就可以達到規(guī)定的細度。但是對于納米涂料的生產(chǎn)，傳統(tǒng)的高速分散機是無法到達要求的，細度的要求無法滿足。

納米涂料的難點是：粉體分散到液體里面，容易形成二級團聚體，會將原本納米級的粒徑變成大的團聚體，從而難以分散細化，影響*終產(chǎn)品性能。
應(yīng)對這種現(xiàn)狀，研發(fā)并生產(chǎn)出型的研磨+分散設(shè)備，研磨和分散一體化的設(shè)備，先研磨將二級團聚體打開，再分散，從而還原原始的納米粒徑。
結(jié)合南昌某客戶的案例，使用GMSD2000系列研磨分散機設(shè)備對納米涂料進行處理，研磨分散3遍，即可還原納米級粒徑，客戶很是驚喜和認可。

納米涂料高剪切分散機

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

研磨式分散機是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

納米涂料高剪切分散機

納米涂料高剪切分散機設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。