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      當前位置:首頁產品中心膠體磨研磨膠體磨GMSD2000硼氫hua鈉立式膠體磨

      硼氫hua鈉立式膠體磨

      產品簡介

      硼氫hua鈉立式膠體磨是一種用于硼氫hua鈉加工處理的設備,主要通過高剪切力等作用實現硼氫hua鈉的粉碎、分散等。

      產品型號:GMSD2000
      更新時間:2025-09-22
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:180
      詳細介紹在線留言

      硼氫hua鈉立式膠體磨

      硼氫hua鈉常溫常壓下穩定。硼氫hua鈉堿性溶液呈棕黃色。常用的還原劑之一。對空氣中的水氣和氧較穩定,操作處理容易。適用于工業規模, 因為溶解性的問題,通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下,硼氫hua鈉無法還原酯,酰胺羧酸及腈類化合物,但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外,可以將酯還原。與硼氫hua鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼結膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對人體有害。應干燥保存,使用時應特別小心,操作時在通風櫥中進行。應貯存在陰涼、干燥的庫房中。防潮,防震,勿與無機酸共貯混運,遠離熱源和火種及易燃物品。

      硼氫hua鈉立式膠體磨


      硼氫hua鈉可以在非常溫和的條件下實現醛酮羰基的還原,生成一級醇、二級。還原步驟是先把底物溶于溶劑,一般是甲醇或者乙醇,然后用冰浴冷卻,將粉末加入混合物攪拌至反應wan全即可。它是一種中等強度的還原劑,所以在反應中表現出良好的化學選擇性,只還原活潑的醛酮羰基,而不與酯、酰胺作用,一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發生反應。少量硼氫hua鈉可以將腈還原成醛,過量則還原成胺

      GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求

      膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

      硼氫hua鈉立式膠體磨


      研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理,這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑,研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨GM2000的效果更加理想。

      硼氫hua鈉立式膠體磨設備參數表:

      研磨分散機

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW


      GMSD2000/4

      400

      14,000

      44

      4

      DN25/DN15

      GMSD2000/5

      1000

      10,050

      44

      11

      DN40/DN32

      GMSD2000/10

      3000

      7,500

      44

      22

      DN80/DN65

      GMSD2000/20

      8000

      4,900

      44

      45

      DN80/DN65

      GMSD2000/30

      20000

      2,850

      44

      90

      DN150/DN125

      GMSD2000/50

      60000

      1,100

      44

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。






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      硼氫hua鈉立式膠體磨

      硼氫hua鈉常溫常壓下穩定。硼氫hua鈉堿性溶液呈棕黃色。常用的還原劑之一。對空氣中的水氣和氧較穩定,操作處理容易。適用于工業規模, 因為溶解性的問題,通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下,硼氫hua鈉無法還原酯,酰胺羧酸及腈類化合物,但當酯的羰基α位有雜原子存在時例外,可以將酯還原。與硼氫hua鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼結膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對人體有害。應干燥保存,使用時應特別小心,操作時在通風櫥中進行。應貯存在陰涼、干燥的庫房中。防潮,防震,勿與無機酸共貯混運,遠離熱源和火種及易燃物品。

      硼氫hua鈉立式膠體磨


      硼氫hua鈉可以在非常溫和的條件下實現醛酮羰基的還原,生成一級醇、二級。還原步驟是先把底物溶于溶劑,一般是甲醇或者乙醇,然后用冰浴冷卻,將粉末加入混合物攪拌至反應wan全即可。它是一種中等強度的還原劑,所以在反應中表現出良好的化學選擇性,只還原活潑的醛酮羰基,而不與酯、酰胺作用,一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發生反應。少量硼氫hua鈉可以將腈還原成醛,過量則還原成胺

      GM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求

      膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

      硼氫hua鈉立式膠體磨


      研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理,這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成,并且具有不同的粒徑,研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨GM2000的效果更加理想。

      硼氫hua鈉立式膠體磨設備參數表:

      研磨分散機

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW


      GMSD2000/4

      400

      14,000

      44

      4

      DN25/DN15

      GMSD2000/5

      1000

      10,050

      44

      11

      DN40/DN32

      GMSD2000/10

      3000

      7,500

      44

      22

      DN80/DN65

      GMSD2000/20

      8000

      4,900

      44

      45

      DN80/DN65

      GMSD2000/30

      20000

      2,850

      44

      90

      DN150/DN125

      GMSD2000/50

      60000

      1,100

      44

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。






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