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      當前位置:首頁產品中心分散機納米粉體分散機GRX 2000/4納米氧化鈰分散機

      納米氧化鈰分散機

      產品簡介

      納米氧化鈰分散機 ,高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。

      產品型號:GRX 2000/4
      更新時間:2018-05-03
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:1022
      詳細介紹在線留言

      納米氧化鈰分散機,氧化鈰分散機,納米分散機,德國納米氧化鈰分散機

       

      分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發生化學反應的物質的混合過程。工業分散的目標是在連續相中實現令人滿意的精細分布。

      納米氧化鈰或黃褐色助粉末。密度7.13g/cm3。熔點2397。不溶于水和堿,微溶于酸。在2000溫度和15Mpa壓力下,可用氫還原氧化鈰得到三氧化二鈰,溫度游離在2000間,壓力游離在5Mpa壓力時,氧化鈰呈微黃略帶紅色,還有粉紅色,其性能是做拋光材料、催化劑、催化劑載體(助劑)、紫外線吸收劑、燃料電池電解質、汽車尾氣吸收劑、電子陶瓷等。

       

      氧化劑。有機反應的催化劑。鋼鐵分析作稀土金屬標樣。氧化還原滴定分析。脫色玻璃。玻璃搪瓷遮光劑。耐熱合金。

       

      用作玻璃工業添加劑,作板玻璃研磨材料,還可用在化妝品中起到抗紫外線作用。目前已擴大到眼鏡玻璃、光學透鏡、顯像管的研磨,起脫色、澄清、玻璃的紫外線和電子線的吸收等作用。

      詢價和技術問題請來電:李 ()   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導。

       

      納米氧化鈰粉體

      團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩定狀態,因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內部有細小孔隙。

      納米顆粒的團聚一般分為兩種:軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理,人們的看法比較*,即,軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。對于硬團聚,不同化學組成不同制備方法有不同的團聚機理,無法用統一的理論來解釋。因此需要采取一些特殊的方法來對其進行控制。

      納米氧化鈰分散的解決辦法

       

      分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續相中上浮或下沉的結果。在忽略布朗運動效應的靜態條件下,可用Stokes 定律來描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:

      式中ρs -ρ為分散相與連續相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩定,就必須降低沉降速度,對于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因為只有當粒徑減至連續相液體分子大小時,顆粒才能穩定、均勻地分散在液體中不發生分離。

      通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩定性,分散相顆粒的粒徑應盡量細小。但應該指出,根據前人所做的大量研究發現,隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變為次要的因素,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當顆粒直徑小于某一細小尺寸時,此時,顆粒的布朗運動效應就不能忽略了,所以由于細小顆粒的布朗運動,而使得顆粒之間產生激烈地碰撞。若不加穩定劑,這些情況都會導致顆粒團聚,對體系的穩定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據物料的特性與特點,減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩定。

      影響分散乳化結果的因素有以下幾點

      1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

      2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

      3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

      4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

      5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

       

      線速度的計算

      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

       剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
      g -轉子 間距 (m)

      由上可知,剪切速率取決于以下因素:

      轉子的線速率

      在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
      IKN -轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

       

      速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

       

      高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.

       

      2、設備特點

           GRS設備與傳統設備相比:

      高效、節能

      傳統設備需8小時的分散加工過程,GRS設備1小時左右完成,超細分散*,能耗極大降低;

      高速、高品質

      傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉,帶分散功能的轉速每分鐘1500轉以內,只完成宏觀分散加工,超細分散能力極為有限;GRS設備的轉速每分鐘10000~15000轉之間,超高線速度產生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。

      GRS設備與同類設備相比:

      多層多向剪切分散

      同類設備的定轉子等部件結構單一,多級多層的結構是單純重復性加工,相同的齒槽結構易發生物料未經分散便通過工作腔的短路現象;

      GRS設備的定轉子結構采用多層多向剪切概念,裝配式結構使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現象,超細分散更為*。

       

      的型號

       

      標準流量(H2O)

      輸出轉速

      標準線速度

      馬達功率

      進出口尺寸

       

      型號

      l/h

      rpm

      m/s

      kW

       

      GRX 2000/4

      700

      20000

      66

      2.2

      DN25/DN15

      GRX 2000/5

      1,500

      15,750

      66

      7.5

      DN40 /DN 32

      GRX 2000/10

      5,000

      10,950

      66

      22

      DN50 / DN50

      GRX 2000/20

      10,000

      7,300

      66

      37

      DN80 /DN 65

      GRX 2000/30

      30,000

      4,000

      66

      75

      DN150 /DN 125

      GRX 2000/50

      50,000

      3,000

      66

      160

      DN200 /DN 150

       

      1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

       

       

       還可以分散其他的一些納米粉末  如有納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、

       

       

      信息來源:www.sgnshsjlcx。。com

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