三級高剪切分散機在青薃素混懸注射液中的應用

 三級高剪切分散機在青薃素混懸注射液中的應用

青薃素的簡介

青薃素，化學式G15H22O5，分子量282.33，無色針狀晶體，味苦。 在丙酮、醋酸乙酯、氯仿、苯及冰醋酸中易溶，在乙醇和甲醇、乙迷及石油醚中可溶解，在水中幾乎不溶。 熔點156-157℃。青薃素，化學式G15H22O5，分子量282.33，無色針狀晶體，味苦。 在丙酮、醋酸乙酯、氯仿、苯及冰醋酸中易溶，在乙醇和甲醇、乙迷及石油醚中可溶解，在水中幾乎不溶。 熔點156-157℃，以青薃素類藥物為主的聯合療法已經成為世界衛生組織推薦的抗瘧疾標準療法也是抵抗瘧疾耐藥性效果的藥物，中國作為抗瘧藥物青薃素的發現方及zui大生產方，在抗擊瘧疾進程中發揮了重要作用。

青薃素懸浮注射液三級高剪切分散機，青薃素懸浮注射液分散機，青薃素懸浮注射液研磨分散機，青薃素懸浮注射液超高速分散機，SGN超高速分散機是比普通的分散機的速度達到4-5倍以上，分散乳化均質研磨效果非常好，zui高轉速可以達到14000RPM。

 青薃素懸浮注射液三級高剪切分散機納米粉體也叫納米顆粒，一般指尺寸在1-100nm之間的超細粒子。納米粉體具有的體積效應、表面效應、量子尺寸效應、介電限域效應等各種效應，使得它表現出強吸光能力、高活性、高催化性、高選擇性、高擴散性、高磁化率和矯頑力等特殊理化性能[1]；使它具備*的力學、光、熱、電、磁、吸附、氣敏等性質[2]。在傳統材料中加入納米粉體將大大改善其性能或帶來意想不到的性質。目前已用于納米固體的壓制、納米涂層、環境保護以及納米粒子光催化上。納米材料科學及工業應用已成為國內外跨新世紀研究開發熱點，并開拓發展成為高技術產業，在電子、化工、機械、生物醫學等工業領域內，具有日益廣泛發展的應用前景。

隨著納米科技的發展，制備納米粉體的方法越來越多。在制備納米粉體過程中，存在的zui大問題就是納米顆粒的團聚，這也是當今納米技術領域內的一個普遍關心、亟待解決的一個難題。控制納米顆粒團聚已成為制備納米顆粒的一項關鍵技術，所以很有必要對納米顆粒團聚現象進行深入研究。

所謂納米粉體的團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩定狀態，因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團聚，形成團聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個顆粒內部有細小孔隙。

                    
納米顆粒的團聚一般分為兩種：軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理，人們的看法比較一致，即，軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。 

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

   
超高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.

   
青薃素懸浮注射液三級高剪切分散機超高速分散機是、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。三級高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。三級高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻管線式三級高剪切分散均質乳化機的循環往復，zui終得到穩定的高品質產品。